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分子束外延团簇型束源炉

  • 双坩埚掺杂用束源炉-DDS
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双坩埚掺杂用束源炉-DDS

  • 型号:DDS
  • 独立挡板设计
  • 超高束流控制精度
  • 产品描述:双坩埚掺杂用束源炉-DDS的坩埚容量很小,设计紧凑,可以提高MBE系统的利用率,通过一个法兰孔可以实现两种材料的掺杂,如Be和Si。
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双坩埚掺杂用束源炉-DDS的坩埚容量很小,设计紧凑,可以提高MBE系统的利用率,通过一个法兰孔可以实现两种材料的掺杂,如Be和Si。


产品特点:

法兰尺寸:CF63

腔体内直径:216-400mm

灯丝类型:Ta灯丝

热偶:W5%Re/W26%Re (Type C)

外部烘烤温度:200℃

操作温度:200-1400℃

除气温度:1500℃

坩埚:PBN坩埚,2cc,5cc

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电话:010-80698356

邮箱:Info@be-instruments.com

地址: 北京市朝阳区霄云路36号国航大厦1310室