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分子束外延束源炉

  • 高温束源炉-HTEZ/HTEZ-W
高温束源炉-HTEZ/HTEZ-W

高温束源炉-HTEZ/HTEZ-W

  • 型号:HTEZ/HTEZ-W
  • 产品描述:高温束源炉-HTEZ/HTEZ-W可加热至1900℃。HTEZ的加热效率高,温度测量控制重复性好,并且允许精确调节。钽灯丝的优化设计确保了加热稳定性,即使在极限温度下也可以具有很长的使用寿命。
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高温束源炉-HTEZ/HTEZ-W用于低蒸汽压的元素和化合物材料薄膜沉积,例如Fe,Cr,Ni,Co,Au,Ge等材料,以及表面科学分析和磁性或氧化物薄膜沉积。


特点:

法兰尺寸:CF40CF63

真空腔体内长度:220-400mm

加热灯丝类型:钽丝加热

热偶:W5%Re/W26%Re( C)

加热温度:最高1900(根据所选坩埚材料)

除气温度:最高1900(根据所选坩埚材料)

外部烘烤温度:250

冷却方式:内集成的水冷或者单独的冷屏

坩埚容量:151035cm3

坩埚材料:Al2O3BeOTaW(根据要求其他材料)

选配:挡板 

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