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分子束外延掺杂束源炉

  • 掺杂用束源炉-DEZ
  • 掺杂用束源炉-DEZ
掺杂用束源炉-DEZ 掺杂用束源炉-DEZ

掺杂用束源炉-DEZ

  • 坩埚容量:2/5/12 cc
  • 温度范围:200~1400℃
  • 产品描述:掺杂用束源炉-DEZ适合于少量蒸发温度在200到1400度的材料,例如Ga, In, Al, Si, Be, Cu, Ag等。
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掺杂用束源炉-DEZ适合于少量蒸发温度在200到1400度的材料,例如Ga, In, Al, Si, Be, Cu, Ag等。

产品特点:

坩埚容量:2/5/12 cc;

锥形坩埚设计;

束源炉设计小巧,控制精确;

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