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脉冲激光沉积系统

  • 大面积脉冲激光沉积/激光分子束外延系统
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大面积脉冲激光沉积/激光分子束外延系统大面积脉冲激光沉积/激光分子束外延系统

大面积脉冲激光沉积/激光分子束外延系统

  • 大面积PLD
  • 大面积LMBE
  • 产品描述:荷兰TSST公司开发的大面积脉冲激光沉积系统,可实现晶圆级薄膜外延生长。
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荷兰Twente Solid State Technology BV(TSST)公司专注于为用户提供定制化的脉冲激光沉积系统(PLD),以及相关薄膜制备解决方案,公司具有20多年研究与生产脉冲激光沉积系统的经验。

TSST与世界最大的纳米与微系统技术研究中心之一荷兰Twente大学MESA+ Institute保持着密切合作,开发出各种脉冲激光沉积技术中需要使用的核心技术。

大面积脉冲激光沉积实现原理:利用激光在条形靶材表面的扫描,实现大面积的薄膜生长;

靶材台展示:

大面积样品加热台展示:


样品生长结果(YSZ on Silicon):






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